全球紫外线纳米印版光刻(UV Nanoimprint Lithography)市场将以5.2%的复合增长率增长

发布日期: 2017-07-10

9Dimen Research 发布的《2017全球紫外线纳米印版光刻(UV Nanoimprint Lithography)市场发展现状及未来趋势》数据显示,北美市场占主导地位,预计这一市场预计将会以6.1%的最高年均复合增长率增长,欧洲区域预计在2016-2020年期间将以每年5.3%的速度增长。

在光纳米压印光刻中,将光(UV)可固化液体抗蚀剂施加到样品基底上,并且模具通常由诸如熔融石英或PDMS的透明材料制成。将模具和基板压在一起后,抗蚀剂在UV光下固化并变成固体。在模具分离之后,可以使用类似的图案转印工艺将抗蚀剂中的图案转印到下面的材料上。在真空中使用UV透明模具是困难的,因为用于保持模具的真空吸盘是不可能的。

由于具有低成本,高吞吐量,高分辨率等优点,特别适用于生产大面积微/纳尺度图案和复杂三维结构以及高纵横比特征,全球UV纳米压印平版印刷市场是预计2016年至2020年期间将出现5.2%的年均复合增长率。

作为一种新兴的具有成本效益的纳米图案技术,软UNI NIL涉及两个基本方面:基础调查和应用研究。基础研究包括工艺,模具(材料,制作印模和主模板),材料(抗蚀剂,功能材料等)的工具,理论依据和关键技术。应用研究主要涉及适用于软UV-NIL的各种实际应用,如LED图案,光学部件,纳米光子学,生物应用等。作者提出了一种软UV-NIL的基础设施。

中文报告链接:http://www.9dimen.com/marketreport/1331
英文报告链接:http://www.gosreports.com/global-uv-nanoimprint-lithography-market-research-report-2016/
英文新闻链接:http://www.gosreports.com/global-uv-nanoimprint-lithography/
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